極智報告|耶魯大學研耶魯大學研究科學家宋杰分享了“納米孔GaN作為高反射和熔覆層的III族氮化物激光器”報告。他表示,我們制備了由納米孔狀的GaN和無孔GaN薄膜的周期結(jié)構(gòu)組成的布拉格反射層,通過4~5對的DBR層就獲得了高達99.9%的放射率,并且顯著地提高了激光二極管結(jié)構(gòu)中的光學限制因子,使得閾值材料gain降低至400cm-1,比之前報道的低了二倍,表明我們可以顯著地降低激光器的開啟閾值電流以及提高光電轉(zhuǎn)化效率。同時,我們也采用納米孔狀的GaN和無孔GaN組成的布拉格反射層引用到VCSEL結(jié)構(gòu)中,實現(xiàn)了光激射的VCSE
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