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“技術(shù)奇跡”EUV光刻機(jī)被美國限制出口的真相

日期:2020-07-02 來源:雷鋒網(wǎng)作者:吳優(yōu)閱讀:454
核心提示:中美兩國之間的貿(mào)易往來促進(jìn)彼此繁榮,但美國始終認(rèn)為某些東西過于危險而無法自由貿(mào)易。過去四十年,中國的開放和中國社會的日益繁榮是上個世界最重要的發(fā)展之一,將近10億人擺脫了貧困。美國及其盟國實施的任何出口管制都應(yīng)該盡可能縮小范圍,只針對破壞國際安全或人權(quán)的技術(shù)和用戶。
   EUV光刻機(jī)是一項技術(shù)奇跡。一臺發(fā)生器每秒噴射出5萬個微小的熔錫液滴,高功率激光對每個液滴進(jìn)行兩次爆破,第一次可以使錫成形,第二次是使錫蒸發(fā)成等離子體。等離子體發(fā)出極紫外光輻射,這種輻射聚集成光束并通過一系列反射鏡反射最終撞擊晶圓。反射鏡十分光滑,以至于即使擴(kuò)大到德國國土面積的尺寸大小,其凹凸也不會超過1毫米。
 
  EUV光束撞擊晶圓的精度很高(本身就是材料科學(xué)的奇跡),相當(dāng)于一把從地球上發(fā)射的弓箭直接擊中放在月球上的蘋果。
 
  EUV光刻機(jī)就是通過這樣一系列操作,將晶體管拉入5nm的晶圓,5nm大概相當(dāng)于我們的指甲在5秒內(nèi)長出的長度。
  技術(shù)奇跡EUV光刻機(jī)的制造困局
 
  一臺EUV光刻機(jī)由10萬多個零件組成,成本約為1.2億美元,需要用40個貨運(yùn)集裝箱裝運(yùn)。但就是這臺價值1.2億美元的機(jī)器,目前世界只有幾十臺,各國對其的需求量也遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過供應(yīng)量,且還有大約兩年的未交貨訂單。
 
  之所以數(shù)量少,是因為目前世界上只有荷蘭的ASML公司能夠制造EUV光刻機(jī)。ASML是一家?guī)缀踔簧a(chǎn)用于芯片制造光刻機(jī)的公司,盡管它的業(yè)務(wù)很局限,但該公司的市值卻超過1500億美元,遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于IBM的市值,僅略低于特斯拉。
 
  EUV光刻技術(shù)自1980年以來一直在發(fā)展,直到最近兩年才進(jìn)入批量生產(chǎn)階段。除了ASML,其它公司(尼康、佳能等公司)只能生產(chǎn)不使用EUV技術(shù)且成本效益較低的老一代光刻機(jī),這些公司所擁有的經(jīng)驗、專業(yè)知識以及市場定價權(quán)都來自于極端技術(shù)需求下競爭激烈的行業(yè)數(shù)十年的盈利能力。
 
  如果這些公司能夠制造EUV光刻機(jī),那么他們將賺上數(shù)十億美元。這也是為什么在經(jīng)歷了30多年和數(shù)十億美元的研發(fā)投入后,ASML能夠獲得如此多的訂單:EUV光刻機(jī)走在人類技術(shù)能力的前沿,制造難度大。
 
  中國自研EUV光刻機(jī)的可能性
 
  中國幾乎沒有光刻經(jīng)驗和光刻行業(yè),任何試圖開發(fā)EUV光刻機(jī)的中國公司都必須從頭開始,不得不努力縮小與擁有數(shù)十億美元資產(chǎn)、數(shù)十年經(jīng)驗以及經(jīng)驗和專業(yè)知識都頗為豐富的成千上萬員工的ASML的差距,同時也不得不在那些經(jīng)驗豐富和擁有數(shù)億美元的生產(chǎn)光刻機(jī)的公司曾經(jīng)失敗過的地方取得成功。
 
  由此可見,在短期內(nèi),中國公司自主生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的可能性很小。
 
  中國意識到EUV光刻機(jī)的重要性,且在美國的壓力下,荷蘭政府于2019年11月阻止ASML將EUV光刻機(jī)運(yùn)送到中國。相關(guān)新聞報道將ASML描述成中美貿(mào)易戰(zhàn)的棋子,但荷蘭的決定事關(guān)重大。
 
  這是因為,有許多具有戰(zhàn)略意義的技術(shù)都具有潛在的危險性或不確定性,包括人工智能、自主武器系統(tǒng)、高超音速導(dǎo)彈、網(wǎng)絡(luò)武器、監(jiān)視工具和最新一代核武器,這些技術(shù)以及其他技術(shù)都需要最新的芯片來開發(fā)和部署。如果讓這些技術(shù)籌碼遠(yuǎn)離中國政府或代表中國政府行事的人,可以在未來幾十年里先發(fā)制人地保護(hù)人權(quán)和安全。
 
  但如果缺乏先進(jìn)的芯片,中國就不能參與技術(shù)權(quán)威主義或軍備競賽。
 
  出口管制不應(yīng)阻礙全球繁榮
 
  中美兩國之間的貿(mào)易往來促進(jìn)彼此繁榮,但美國始終認(rèn)為某些東西過于危險而無法自由貿(mào)易。過去四十年,中國的開放和中國社會的日益繁榮是上個世界最重要的發(fā)展之一,將近10億人擺脫了貧困。美國及其盟國實施的任何出口管制都應(yīng)該盡可能縮小范圍,只針對破壞國際安全或人權(quán)的技術(shù)和用戶。
 
  可以通過“兩步走”出口控制計劃來實現(xiàn)這一目標(biāo)。首先,美國、荷蘭和日本應(yīng)對生產(chǎn)先進(jìn)芯片所學(xué)的包括光刻機(jī)在內(nèi)的制造設(shè)備實施嚴(yán)格的多邊出口管制。這三個國家?guī)缀鯄艛嗔讼冗M(jìn)的芯片制造設(shè)備,其技術(shù)壁壘與EUV光刻技術(shù)類似。有針對性的出口管制將繼續(xù)促進(jìn)彼此往來。
 
  其次,制造先進(jìn)芯片的國家應(yīng)該對芯片實行狹窄的多邊出口管制。這些控制措施應(yīng)針對特定的最終用戶和最終用途,同時允許絕大多數(shù)中國公司進(jìn)口用于商業(yè)用途的芯片。
 
  EUV光刻機(jī)不僅僅是技術(shù)奇跡,還提供了重要的發(fā)展路徑。通過先進(jìn)的計算機(jī)芯片技術(shù),可以推動科學(xué)和工程領(lǐng)域前沿的發(fā)展,促進(jìn)全球繁榮。若這些機(jī)器掌握在民主國家手中,可能在未來十年,都能夠維持繁榮前進(jìn)的步伐。
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