1月14日， 盛美半導(dǎo)體官方發(fā)布，盛美半導(dǎo)體首臺(tái)應(yīng)用于大功率半導(dǎo)體器件制造的新款 12 寸單晶圓薄片清洗設(shè)備已通過(guò)廈門士蘭集科量產(chǎn)要求，提前驗(yàn)收！該設(shè)備于 2020 年 5 月 20 日作為首批設(shè)備之一搬入工廠，從正式裝機(jī)到應(yīng)用于產(chǎn)品片生產(chǎn)，只用了 18 天的時(shí)間，原定一年的驗(yàn)證期僅用了 6 個(gè)月即順利完成驗(yàn)收。
▲盛美 12 寸單晶圓薄片清洗設(shè)備
盛美新款 12 寸單晶圓薄片清洗設(shè)備，是一款高產(chǎn)能的四腔體系統(tǒng)，用于超薄片的硅減薄濕法蝕刻工藝，以消除晶圓應(yīng)力、并進(jìn)行表面清洗等。該系統(tǒng)的傳輸及工藝模塊為超薄硅片的搬送及工藝處理提供了有效的解決方案，基于伯努利效應(yīng)，該系統(tǒng)在傳輸與工藝中，與晶圓表面完全無(wú)接觸，消除由接觸帶來(lái)的機(jī)械損傷，提高器件的良率。
通過(guò)不同的設(shè)定，該系統(tǒng)可適用于 Taiko 片、超薄片、鍵合片、深溝槽片等不同厚度的晶圓；通過(guò)采用不同的化學(xué)藥液組合，該系統(tǒng)可拓展應(yīng)用于清洗、光刻膠去除、薄膜去除和金屬蝕刻等工藝。
