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2021年,碳化硅半導(dǎo)體的技術(shù)展望!

日期:2021-03-11 來源:化合物半導(dǎo)體閱讀:252
核心提示:隨著寬禁帶技術(shù)不斷滲透到傳統(tǒng)和新興的電力電子應(yīng)用中,半導(dǎo)體廠商一直在以驚人的速度開發(fā)其產(chǎn)品系列。
隨著寬禁帶技術(shù)不斷滲透到傳統(tǒng)和新興的電力電子應(yīng)用中,半導(dǎo)體廠商一直在以驚人的速度開發(fā)其產(chǎn)品系列。其中一些已發(fā)布了多代技術(shù)產(chǎn)品,例如,安森美半導(dǎo)體最近推出了650伏(V) SiC MOSFET。
 
寬禁帶半導(dǎo)體如SiC和氮化鎵(GaN),正在成為主流并與高增長應(yīng)用領(lǐng)域如電動汽車(EV)和5G基站相關(guān)。然而,傳統(tǒng)的硅基MOSFET有成本優(yōu)勢,仍用于大多數(shù)應(yīng)用。成本差異意味著現(xiàn)在寬禁帶器件將主要用于減少整體系統(tǒng)成本。
 
例如,這可通過去除冷卻系統(tǒng)或減小無源器件的尺寸和成本來實現(xiàn)。由于WBG器件的開關(guān)頻率更高,因此有可能實現(xiàn)這些縮減。短期內(nèi),將看到方案會結(jié)合硅和第三代半導(dǎo)體兩種技術(shù)。如逆變器可搭配一個傳統(tǒng)的硅IGBT和一個SiC二極管,以實現(xiàn)比轉(zhuǎn)向全SiC更低的系統(tǒng)成本,同時仍提高能效和可靠性。
 
5G可能比4G LTE的速度快20倍。為了更快的運行,需要處理更高功率、有更好散熱能效的器件,使硬件不會過熱,和為提高電源能效而優(yōu)化。
 
這些新平臺的性能目標和SiC MOSFET的優(yōu)勢完美匹配,不只因為SiC非常適用于嚴苛的環(huán)境。這些優(yōu)勢意味著SiC在云服務(wù)和人工智能(AI)方面也發(fā)揮重要作用。需求在這些應(yīng)用領(lǐng)域呈指數(shù)級增長,對更高功率密度的需求是設(shè)計工程師關(guān)注的焦點。
 
寬禁帶器件(SiC和GaN)對電力電子的未來至關(guān)重要。這些技術(shù)正在創(chuàng)建以前由于材料的物理性質(zhì)所不可能創(chuàng)建的器件。
 
安森美預(yù)計看到SiC在工業(yè)電源和能量生成的市場份額將繼續(xù)穩(wěn)定增長,在汽車牽引逆變器的市場份額增長更快。GaN顯示出在消費類電源等應(yīng)用中大規(guī)模采用的跡象,在這些應(yīng)用中,功率密度是個關(guān)鍵的設(shè)計目標。雖然GaN也適用其它更高要求的應(yīng)用,但預(yù)期在約3年內(nèi)不會達到同等規(guī)模的采用率。
 
目前,SiC襯底開發(fā)是最大的瓶頸,半導(dǎo)體制造商包括安森美半導(dǎo)體正致力解決這問題。其它瓶頸包括但不限于外延生長、晶圓廠加工和封裝。
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