據(jù)媒體報導(dǎo)，5月13日韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部（The Ministry of Trade, Industry and Energy，MOTIE）對外宣布，全球光刻機龍頭大廠阿斯麥（ASML）計劃赴韓國打造EUV 再制造（remanufacturing）廠及培訓(xùn)中心。

 

據(jù)介紹，ASML未來4年將在韓國投資2,400億韓元（2.1億美元），于京畿道華城市打造一座EUV光刻設(shè)備再制造廠以及一家培訓(xùn)中心。所謂再制造，是指通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等，將廢舊產(chǎn)品恢復(fù)如新的過程。

 

想要打造先進(jìn)制程的半導(dǎo)體生產(chǎn)線，一定要設(shè)法取得關(guān)鍵半導(dǎo)體設(shè)備。應(yīng)用材料、ASML、泛林半導(dǎo)體、東京電子是全球前四大半導(dǎo)體設(shè)備廠商，總體的市占率高達(dá)60%左右。問題是，這些半導(dǎo)體設(shè)備廠每年只能生產(chǎn)一定數(shù)量的機臺，交貨時間也比較長。

 

特別是對于7nm以下先進(jìn)制程所必須的EUV光刻機來說，目前ASML是全球唯一一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。但是目前ASML的EUV光刻機產(chǎn)能十分有限，一年只能生產(chǎn)30臺左右EUV光刻機。

 

據(jù)媒體報道稱，目前臺積電已取得了50臺EUV設(shè)備，而三星僅有10臺。

 

此次ASML計劃在韓國新建的EUV再制廠，主要用途就是為韓國當(dāng)?shù)剡\行的EUV光刻機維護(hù)、升級提供助力。

 

據(jù)了解，韓國MOTIE及京畿道政府將針對ASML的授權(quán)、擴張當(dāng)?shù)貥I(yè)務(wù)事宜提供協(xié)助。而上述設(shè)施預(yù)計2025年底前落成，未來將在韓國聘用超過??300名專業(yè)人才。

 

另外值得一提的是，報道還指出，目前美國半導(dǎo)體設(shè)備大廠泛林半導(dǎo)體（Lam Research Corp.）將擴大對韓國的投資南。報道引述業(yè)界消息指出，泛林半導(dǎo)體已將韓國的生產(chǎn)目標(biāo)提高一倍，正在尋找合適的地點建立新廠，以便擴充產(chǎn)能。