該項(xiàng)目主要研究 ArF 濕法光刻膠工業(yè)化生產(chǎn)技術(shù)開發(fā)，通過(guò)建立標(biāo)準(zhǔn)化的生產(chǎn)及控制流程，提升高端光刻膠的質(zhì)量控制水平，實(shí)現(xiàn)193nm 濕法光刻膠量產(chǎn)生產(chǎn);同時(shí)，逐步建立先進(jìn)的集成電路及配套材料開發(fā)與應(yīng)用評(píng)價(jià)平臺(tái)。