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電子科技大學(xué)李曦:GaN HEMT功率器件的熱瞬態(tài)測(cè)試方法與機(jī)理研究

日期:2021-12-13 來源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)閱讀:429
核心提示:近日,以創(chuàng)芯生態(tài) 碳索未來為主題的第七屆國際第三代半導(dǎo)體論壇暨第十八屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(IFWSSSLCHINA 2021)在深圳會(huì)
 近日,以“創(chuàng)芯生態(tài) 碳索未來”為主題的第七屆國際第三代半導(dǎo)體論壇暨第十八屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇(IFWS & SSLCHINA 2021)在深圳會(huì)展中心舉行。本屆論壇由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)、國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)聯(lián)合主辦,北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)共同承辦。
 
期間,“氮化鎵功率器件“專場上,電子科技大學(xué)電子薄膜與集成器件國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室李曦做了題為“GaN HEMT功率器件的熱瞬態(tài)測(cè)試方法與機(jī)理研究”的主題報(bào)告。

隨著功率器件逐漸走向高頻高壓應(yīng)用,Si基器件受開關(guān)損耗的限制已經(jīng)很難繼續(xù)突破。而寬禁帶半導(dǎo)體材料GaN由于高遷移率、高臨界擊穿電場而更能耐高壓、高頻。
 
但隨著功率密度不斷上升,器件熱產(chǎn)生加劇,同時(shí)由于GaN的自熱效應(yīng),加上GaN熱導(dǎo)率不高,導(dǎo)致GaN HEMT的熱問題顯著。要分析HEMT的熱特性,提高器件熱可靠性,就離不開對(duì)器件結(jié)溫提取以及熱阻的測(cè)試,目前關(guān)于GaN HEMT熱阻的測(cè)試還未有統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn),常見的是依靠柵極處的肖特基接觸進(jìn)行熱測(cè)試,但并不是所有的HEMT器件柵極都具有肖特基接觸。
 
在對(duì)HEMT的接觸電阻以及電子遷移率的溫度特性研究發(fā)現(xiàn),接觸電阻具有很好的線性溫度特性,此外綜合電子遷移率以及載流子濃度的溫度系數(shù)最后發(fā)現(xiàn)整體導(dǎo)通電阻具有很好的溫度特性,因此導(dǎo)通電阻可以作為熱瞬態(tài)測(cè)試的熱敏系數(shù)。
 
采用了GaN HEMT的導(dǎo)通電阻作為熱敏參數(shù)進(jìn)行熱瞬態(tài)測(cè)試,與利用柵極肖特基接觸相比,此法不受限于特定的幾種柵極結(jié)構(gòu),甚至對(duì)于耗盡型的HEMT也同樣適用;在實(shí)驗(yàn)過程中,發(fā)現(xiàn)由于GaN HEMT動(dòng)態(tài)導(dǎo)通電阻得問題使得熱瞬態(tài)測(cè)試的結(jié)果一致性較差,無法重復(fù)得到相同的測(cè)試結(jié)果。
 
在測(cè)試中通過加入高溫150℃烘烤10分鐘的步驟,使得器件在每次測(cè)試前均恢復(fù)至初始狀態(tài),使得最終熱瞬態(tài)測(cè)試的結(jié)果具有良好的可重復(fù)性。
 
 
(內(nèi)容根據(jù)現(xiàn)場資料整理,如有出入敬請(qǐng)諒解)
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