先前美國考慮擴大限制美企生產(chǎn)的半導體制造關(guān)鍵設(shè)備出口中國大陸范圍，從邏輯芯片延伸至存儲器芯片，路透最新報導則披露，拜登政府計劃10月將對中國大陸實施更廣泛的半導體出口限制。

 

對此，外交部回應(yīng)表示，美方這么做完全是科技霸權(quán)主義，美國是企圖利用自己的科技優(yōu)勢遏制打壓新興市場和發(fā)展中國家。美方嘴里說的是要公平競爭，要基于規(guī)則，實際上做的是美國優(yōu)先，實力至上。美國就是希望把包括中國在內(nèi)的廣大發(fā)展中國家永遠控制在產(chǎn)業(yè)鏈的低端，這種做法不具建設(shè)性。

 

在晶圓代工領(lǐng)域，業(yè)界有分析稱，14nm以下半導體設(shè)備主要是歐美和日本廠商的天下，加上美國在EDA軟件部分也對大陸14nm以下制程設(shè)計工具進行了制裁，導致大陸在先進制程方面軟硬件兩方面都面臨困境。

 

據(jù)研究機構(gòu)TrendForce的報告指出，以全球各區(qū)域12英寸約當產(chǎn)能來看，2025年時，全球7納米以下先進制程產(chǎn)能以中國臺灣占比約69%最高，其后依次為韓國18%、美國12%、大陸1%。相較2022年的格局，顯見美國未來三年將提升先進制程產(chǎn)能占比，中國大陸將仍以成熟制程為主軸。

 

所以，可以想見，未來大陸半導體市場想要在先進制程方面有所突破是非常難的，需要在軟硬件兩方面雙管齊下才可能有突圍的機會。

 

近日，就有消息稱上海精測半導體第三批前道光學測量設(shè)備從新廠順利出貨，再度交付于華北大客戶。此次出貨的EFILM®系列光學膜厚測量設(shè)備和EPROFILE®系列光學關(guān)鍵尺寸測量設(shè)備，能夠滿足多方面測量需求。

 

為此，上海精測半導體于2022年1月10日申請了一項名為“一種光學測量數(shù)據(jù)分析方法、分析系統(tǒng)及電子設(shè)備”的發(fā)明專利。上海精測半導體的光學測量專利，通過將偏差指數(shù)和相關(guān)系數(shù)都納入光譜匹配度指標中，提高了光譜分析的準確度和普適性，能夠基于量測結(jié)果的異常判斷結(jié)果在線監(jiān)測半導體加工工藝是否達標，大幅提高了半導體加工良率判斷的準確度。

 

同時，國內(nèi)EDA廠商京華大九天科技股份有限公司在投資者關(guān)系活動中透露，其模擬全流程系統(tǒng)目前能夠完整支持28nm及以上的成熟工藝，正在大規(guī)模推廣應(yīng)用；同時在模擬全流程系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，正在面向全定制領(lǐng)域開發(fā)相關(guān)全流程工具。數(shù)字領(lǐng)域也正在開發(fā)相關(guān)的核心工具，預計到2025年左右完成設(shè)計類所需全流程工具系統(tǒng)的建設(shè)。

 

此外，華大九天也表示，在電路仿真工具方面，其攻克了電路仿真器的核心技術(shù)——超大規(guī)模矩陣求解技術(shù)，在不損失精度的前提下，性能比競品提升1-2個量級；并且在業(yè)內(nèi)率先采用異構(gòu)計算技術(shù)，可以進一步大幅提升產(chǎn)品的性能，非常適合那些仿真精度和性能要求較高的模擬芯片設(shè)計，已經(jīng)得到數(shù)百家模擬芯片設(shè)計公司的認可。同時華大九天也圍繞仿真技術(shù)產(chǎn)生了一系列衍生應(yīng)用，如可靠性分析、良率分析、IP建庫工具等。

 

可以看到，國內(nèi)的半導體設(shè)備和EDA廠商也在不斷努力和創(chuàng)新，雖然目前距離世界領(lǐng)先廠商還有一定距離，但一步一個腳印，總有齊頭并進的時刻。

 

(來源：半導體技術(shù)天地)