2024年4月8-11日，一年一度化合物半導(dǎo)體行業(yè)盛會(huì)——2024九峰山論壇暨中國(guó)國(guó)際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（簡(jiǎn)稱(chēng)“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會(huì)展中心舉辦。新毅東（上海）科技有限公司將攜新品亮相本屆盛會(huì)，誠(chéng)邀業(yè)界同仁蒞臨3T19展臺(tái)參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會(huì)由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、九峰山實(shí)驗(yàn)室共同主辦，以“聚勢(shì)賦能 共赴未來(lái)”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導(dǎo)體制造技術(shù)專(zhuān)家、行業(yè)領(lǐng)袖和創(chuàng)新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術(shù)與商貿(mào)交流”的形式，為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準(zhǔn)對(duì)接平臺(tái)，助力企業(yè)高效、強(qiáng)力拓展目標(biāo)客戶(hù)資源，加速驅(qū)動(dòng)中國(guó)化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的完善和升級(jí)。
CSE作為2024年首場(chǎng)國(guó)際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)得到了多方力量的大力支持，三大主題展區(qū)，六大領(lǐng)域，將集中展示各鏈條關(guān)鍵環(huán)節(jié)的新技術(shù)、新產(chǎn)品、新服務(wù)，將打造化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域的標(biāo)桿性展會(huì)。助力打造全球化合物半導(dǎo)體平臺(tái)、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的燈塔級(jí)盛會(huì)，集中展示化合物半導(dǎo)體上下游全產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品，搭建企業(yè)發(fā)布年度新產(chǎn)品新技術(shù)的首選平臺(tái)，支撐產(chǎn)業(yè)鏈及中部地區(qū)建設(shè)具有全球影響力的萬(wàn)億級(jí)光電子信息產(chǎn)業(yè)集群。
新毅東（上海）科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“BNE”）成立于2014年3月，公司總部坐落于上海浦東臨港新片區(qū)，是一家提供半導(dǎo)體高端裝備系統(tǒng)解決方案的高新技術(shù)企業(yè)。BNE致力于光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)及高端濕法設(shè)備的研發(fā)及生產(chǎn)，積極引入海外成熟的產(chǎn)品與技術(shù)，具備為客戶(hù)提供相關(guān)設(shè)備的制程整合及解決方案。核心產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、光通信及照明等重要領(lǐng)域。與此同時(shí)BNE與中芯國(guó)際、燕東微電子、三安光電等半導(dǎo)體業(yè)界眾多龍頭企業(yè)保持良好的合作，積累了豐富的應(yīng)用端的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，培養(yǎng)了具有專(zhuān)業(yè)素質(zhì)的技術(shù)開(kāi)發(fā)及服務(wù)團(tuán)隊(duì)。主營(yíng)業(yè)務(wù)：涂膠顯影設(shè)備、高端濕法設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn)；光刻再制造、涂膠顯影再制造；半導(dǎo)體設(shè)備零部件研發(fā)替代及相關(guān)技術(shù)服務(wù)。
產(chǎn)品介紹
光刻機(jī)再制造設(shè)備
致力于Nikon、Canon系列等光刻設(shè)備的再制造，產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋集成電路、合物半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、光通信及照明等。
Nikon系列產(chǎn)品
Nikon G線光刻機(jī)，光源波長(zhǎng)436nm，投影比例5:1，分辨率0.65µm，適用于2/4/6英寸生產(chǎn)線；
Nikon i線步進(jìn)投影式光刻機(jī)，光源波長(zhǎng)365nm，投影比例5:1，分辨率0.6~0.35µm，適用于2/4/6/8英寸生產(chǎn)線；
Nikon SF掃描式光刻機(jī)系列，光源波長(zhǎng)365nm，投影比例4:1，分辨率0.28~0.35µm，適用于4/6/8/12英寸生產(chǎn)線；
Nikon KrF掃描式光刻機(jī)及Nikon EX系列，光源波長(zhǎng)248nm，投影比例4:1，分辨率0.25~0.11µm，適用于4/6/8/12英寸生產(chǎn)線；
Nikon ArF掃描式光刻機(jī)，波長(zhǎng)193nm，投影比例4:1，分辨率優(yōu)于0.07µm，適用于8英寸及12英寸生產(chǎn)線。
Canon系列產(chǎn)品
Canon i線光刻機(jī)，波長(zhǎng)365nm，投影比例5:1，分辨率0.5µm-0.35µm。適用于4/6/8英寸范圍生產(chǎn)線。
Canon KrF光刻機(jī)，波長(zhǎng)248nm，投影比例4:1，分辨率0.25µm~0.13µm。適用于4/6/8/12英寸范圍生產(chǎn)線。
高端濕法設(shè)備
槽式清洗設(shè)備XW3000系列
槽式清洗設(shè)備XW3000系列，可用于RCA清洗，濕法去膠，介質(zhì)層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗以及其它特殊工藝清洗需求。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，可依照客戶(hù)不同化學(xué)藥液及工藝需求定制化設(shè)計(jì)。
適用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Plating
應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體先進(jìn)封裝、2.5D/3DIC封裝、化合物半導(dǎo)體、硅晶圓制造、SiC晶圓制造、MOSFET晶圓后段制程（BGBM）、車(chē)用二極管、石英元件、CIS光學(xué)元件。
單芯片清洗設(shè)備XS5000系列
適用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Flux Clean, Mask Clean
應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體先進(jìn)封裝、2.5D/3DIC封裝、化合物半導(dǎo)體、硅晶圓制造、SiC晶圓制造、MOSFET晶圓后段制程（BGBM）、車(chē)用二極管、石英元件、CIS光學(xué)元件。
涂膠顯影設(shè)備
BNE TC1500涂膠顯影off line設(shè)備
BNE TC2000涂膠顯影設(shè)備
聯(lián)系方式：
地址：上海市浦東新區(qū)飛渡路1568號(hào)C5幢
電話(huà)：021-5088 0328
郵箱：sales@bjnewestech.com
微信公眾號(hào)：新毅東
值此之際，我們誠(chéng)邀業(yè)界同仁共聚本屆盛會(huì)，蒞臨展位現(xiàn)場(chǎng)參觀交流、洽談合作。
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