2024年4月8-11日，一年一度化合物半導(dǎo)體行業(yè)盛會——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會（簡稱“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會展中心舉辦。張家港安儲科技有限公司將攜新品亮相本屆盛會，誠邀業(yè)界同仁蒞臨參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、九峰山實(shí)驗(yàn)室共同主辦，以“聚勢賦能 共赴未來”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導(dǎo)體制造技術(shù)專家、行業(yè)領(lǐng)袖和創(chuàng)新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術(shù)與商貿(mào)交流”的形式，為產(chǎn)業(yè)鏈的升階發(fā)展搭建供需精準(zhǔn)對接平臺，助力企業(yè)高效、強(qiáng)力拓展目標(biāo)客戶資源，加速驅(qū)動中國化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的完善和升級。
CSE作為2024年首場國際化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會得到了多方力量的大力支持，三大主題展區(qū)，六大領(lǐng)域，將集中展示各鏈條關(guān)鍵環(huán)節(jié)的新技術(shù)、新產(chǎn)品、新服務(wù)，將打造化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域的標(biāo)桿性展會。助力打造全球化合物半導(dǎo)體平臺、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的燈塔級盛會，集中展示化合物半導(dǎo)體上下游全產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)品，搭建企業(yè)發(fā)布年度新產(chǎn)品新技術(shù)的首選平臺，支撐產(chǎn)業(yè)鏈及中部地區(qū)建設(shè)具有全球影響力的萬億級光電子信息產(chǎn)業(yè)集群。
張家港安儲科技有限公司是由在國際知名電子材料企業(yè)多年研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的博士和專業(yè)人才所創(chuàng)立，專注于瞄準(zhǔn)世界先進(jìn)水平的先進(jìn)電子材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。公司已經(jīng)獲得姑蘇領(lǐng)軍和張家港重點(diǎn)領(lǐng)軍創(chuàng)業(yè)企業(yè)等榮譽(yù)、2023年獲評江蘇省民營科技企業(yè)稱號并通過江蘇省高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定。公司主營產(chǎn)品：配方型功能電子化學(xué)品(主要有拋光液、研磨液、清洗液等）以及電子特氣安全存儲負(fù)壓鋼瓶所需的吸附材料。產(chǎn)品覆蓋130到5納米制程，適用于銅，鈷，鎢以及氧化硅，硅襯底以及碳化硅襯底表面。公司擁有核心技術(shù)，產(chǎn)品現(xiàn)已經(jīng)申請發(fā)明專利8項(xiàng)、授權(quán)1項(xiàng)，實(shí)用新型12項(xiàng)、授權(quán)10項(xiàng)，PCT3項(xiàng)。公司已經(jīng)獲得ISO9001質(zhì)量管理體系，ISO14001環(huán)境管理體系、 ISO45001職業(yè)健康管理體系認(rèn)證。
產(chǎn)品介紹
碳化硅襯底拋光清洗方案
碳化硅襯底拋光液
碳化硅襯底由于硬度高，脆性大等特點(diǎn)，給拋光帶來了極大的難度。安儲科技ACTL-WS系列拋光液是一種高效的碳化硅襯底表面拋光產(chǎn)品，在具有較高的材料去除率的同時可獲得低表面粗糙度，低缺陷的晶圓表面。而且拋光液可以循環(huán)使用， 降低了客戶的使用成本。
碳化硅襯底拋光后晶圓清洗液
傳統(tǒng)的碳化硅晶圓拋光后清洗一般都采用RCA工藝清洗，清洗流程長，工藝要求高。安儲科技WK系列清洗液是專為碳化硅CMP拋光后有效清洗晶圓表面而設(shè)計(jì)的配方類清洗液，使用一步清洗，縮減了清洗工藝，清洗效果好，能有效的去除晶圓表面有機(jī)物以及顆粒等污染物。
碳化硅襯底拋光后機(jī)臺拋光墊清洗液
碳化硅襯底拋光液因使用高錳酸鉀等氧化劑，對機(jī)臺以及拋光墊會有一定腐蝕性， 安儲科技開發(fā)的PK系列研磨后機(jī)臺研磨墊清洗液可以有效的清洗拋光后殘留物，清洗性能優(yōu)異，清洗時間短，并可稀釋使用，降低客戶成本。
拋光后清洗液PCMP
半導(dǎo)體制程中化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）后表面易產(chǎn)生研磨粒子，有機(jī)物，金屬離子等缺陷。需要通過特殊的功能性化學(xué)清洗減少缺陷，提高良率，這是芯片生產(chǎn)中必須的步驟。
安儲科技開發(fā)了系列PCMP拋光后清洗， 產(chǎn)品覆蓋130nm至5nm制程， 適用于不同材料拋光后的清洗， 比如銅， 鈷， 鎢以及氧化硅表面等。
銅蝕刻液
安儲科技開發(fā)的銅蝕刻液不含氟離子，環(huán)保安全，可精確控制對銅的蝕刻速率以及刻蝕角度，沒有倒角，并且無殘?jiān)鼩埩簦a(chǎn)品的Bath life長，在較高銅離子濃度下仍能保持優(yōu)異的蝕刻性能。
光刻膠剝離液PR Stripper
半導(dǎo)體芯片，LCD， LED， 平板顯示中用于形成特定圖案的光阻劑必須完全清除干凈同時對其他接觸材料沒有損傷。以有機(jī)溶劑為主的剝離液在半導(dǎo)體中長期使用。對其他接觸材料基本沒有損傷， 但對于較厚的光阻清除效果不是很理想。由于半導(dǎo)體技術(shù)和光阻材料的發(fā)展，目前商用的配方型含有機(jī)溶劑的剝離液的清除效果有待提高并且價格較高。
安儲科技高效低成本的配方型光阻剝離液能夠有效的清除各種光刻膠，同時不蝕刻或者侵蝕其他暴露的材料，不僅僅用于先進(jìn)半導(dǎo)體芯片中而且也用于LCD， LED， 平板顯示制程中。
電子特氣負(fù)壓存儲鋼瓶
安儲科技開發(fā)的電子特氣負(fù)壓存儲鋼瓶內(nèi)裝多孔材料，具有高比表面積，對磷烷(PH3)和砷烷(AsH3)三氟化硼(BF3)，四氟化鍺(GeF4)等電子特氣有著很高的吸附能力，儲存穩(wěn)定安全，不會影響氣體純度，釋放量高?？梢杂迷诎雽?dǎo)體離子注入等設(shè)備工藝。
客制化服務(wù)
安儲科技可以為客戶定制開發(fā)特殊應(yīng)用拋光液以及清洗液，蝕刻液，剝離液等配方類功能電子化學(xué)品。安儲科技硬件設(shè)施:
郵箱/Email：actl@anchutech.com
服務(wù)熱線：0512-56307796
公司網(wǎng)站: www.anchutech.com
公司地址: 張家港保稅區(qū)新興產(chǎn)業(yè)育成中心A幢525室
值此之際，我們誠邀業(yè)界同仁共聚本屆盛會，蒞臨展位現(xiàn)場參觀交流、洽談合作。
關(guān)于JFSC&CSE 2024
