據(jù)塔斯社報(bào)道，俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng) Vasily Shpak 表示，該設(shè)備可確保生產(chǎn) 350 納米工藝的芯片。

Shpak 表示，“我們組裝并制造了第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試。”俄羅斯接下來(lái)的目標(biāo)是在 2026 年制造可以支持 130nm 工藝的光刻機(jī)。

據(jù)悉，350 納米工藝的芯片現(xiàn)在仍然可以應(yīng)用于汽車、能源和電信等多個(gè)行業(yè)。

據(jù)IT之家此前報(bào)道，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所(IPF RAS) 曾于 2022 年宣布，正在開(kāi)發(fā)俄羅斯首套半導(dǎo)體光刻設(shè)備，并對(duì)外夸下海口：這套光刻機(jī)能夠使用 7nm 生產(chǎn)芯片，可于 2028 年全面投產(chǎn)。

據(jù)介紹，他們計(jì)劃在六年內(nèi)制作出光刻機(jī)的工業(yè)原型，首先要在2024 年開(kāi)發(fā)一臺(tái) alpha 機(jī)器。這一階段的重點(diǎn)不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。