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歐洲1nm、光芯片試驗線啟動

日期:2025-01-20 閱讀:378
核心提示:歐洲四大領(lǐng)先研究機構(gòu)的負責(zé)人齊聚一堂,共同啟動首批五條歐盟《芯片法案》試驗線。比利時imec的 Luc Van den hove、法國CEA-Let

 歐洲四大領(lǐng)先研究機構(gòu)的負責(zé)人齊聚一堂,共同啟動首批五條歐盟《芯片法案》試驗線。

比利時imec的 Luc Van den hove、法國CEA-Leti的 François Jacq、德國Fraunhofer-Gesellschaft的Albert Heuberger、意大利Consiglio Nazionale delle Ricerche的Stefano Fabris和西班牙ICFO的Valerio Pruneri與新任歐盟委員會副主席Henna Virkkunen會面。試驗線旨在彌合研究創(chuàng)新與制造之間的差距,加強CMOS的半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)。

由imec主辦的這條耗資14億美元的NanoIC試驗線將超越目前正在開發(fā)的2nm工藝技術(shù),覆蓋從1nm到7A(0.7nm)工藝。其他合作伙伴包括芬蘭VTT、羅馬尼亞CSSNT、愛爾蘭廷德爾國家研究所以及光刻設(shè)備制造商ASML。

imec還與其他由CEA-Leti協(xié)調(diào)的低功耗FD-SOI(FAMES試點生產(chǎn)線)、由Fraunhofer-Gesellschaft協(xié)調(diào)的異構(gòu)系統(tǒng)集成(APECS試點生產(chǎn)線)以及由ICFO協(xié)調(diào)的光子集成電路(PIXEurope)試點生產(chǎn)線合作,第五條試點生產(chǎn)線由意大利Consiglio Nazionale delle Ricerche領(lǐng)導(dǎo),專注于新型寬禁帶材料(WBG)。APECS生產(chǎn)線已于去年12月啟動運營。

“APECS試驗線的一個關(guān)鍵資產(chǎn)是其分散的結(jié)構(gòu),它結(jié)合了來自德國及其他地區(qū)合作伙伴的專業(yè)知識,”Fraunhofer IPMS項目經(jīng)理Kai Zajac表示。

“APECS一站式服務(wù)中心位于柏林,為客戶提供異構(gòu)集成和Chiplet(小芯片)技術(shù)的定制解決方案。在這里,客戶與APECS合作,確定最終產(chǎn)品的最佳路徑。一旦概念成型,APECS龐大的合作伙伴網(wǎng)絡(luò)將與客戶深入合作,打造最終的原型和產(chǎn)品,”他補充道。

法國格勒諾布爾CEA-Leti的生產(chǎn)線正在開發(fā)一種FD-SOI低功耗工藝,工藝精度可達10nm,超越目前的22nm工藝技術(shù)。

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