3月12日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“中微公司”）宣布其等離子體刻蝕設(shè)備反應(yīng)總臺(tái)數(shù)全球累計(jì)出貨超過(guò)5000臺(tái)。這包括CCP高能等離子體刻蝕機(jī)和ICP低能等離子體刻蝕機(jī)、單反應(yīng)臺(tái)反應(yīng)器和雙反應(yīng)臺(tái)反應(yīng)器共四種構(gòu)型的設(shè)備。等離子體刻蝕機(jī)，是光刻機(jī)之外，最關(guān)鍵的、也是市場(chǎng)最大的微觀加工設(shè)備。由于微觀器件越做越小和光刻機(jī)的波長(zhǎng)限制，也由于微觀器件從二維到三維發(fā)展，刻蝕機(jī)是半導(dǎo)體設(shè)備過(guò)去十年增長(zhǎng)最快的市場(chǎng)。這一重要里程碑標(biāo)志著中微公司在等離子體刻蝕設(shè)備領(lǐng)域持續(xù)得到客戶與市場(chǎng)的廣泛認(rèn)可，也彰顯了公司在等離子體刻蝕領(lǐng)域已進(jìn)入國(guó)際前列。

中微公司致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細(xì)分刻蝕設(shè)備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)和國(guó)際一線客戶，從65納米到5納米及更先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導(dǎo)體和半導(dǎo)體化學(xué)薄膜設(shè)備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設(shè)備。

中微公司的刻蝕設(shè)備在過(guò)去的20年積累了大量的芯片生產(chǎn)線量產(chǎn)數(shù)據(jù)和客戶驗(yàn)證數(shù)據(jù)，已經(jīng)可以覆蓋絕大多數(shù)的刻蝕應(yīng)用，包括各種高端的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備不斷擴(kuò)大市場(chǎng)占有率，該公司的CCP高能等離子刻蝕設(shè)備和ICP低能等離子體刻蝕設(shè)備的出貨量近年來(lái)都保持高速增長(zhǎng)。CCP設(shè)備在線累計(jì)裝機(jī)量近四年年均增長(zhǎng)大于37%，已突破4000個(gè)反應(yīng)臺(tái)；ICP設(shè)備在線累計(jì)裝機(jī)量近四年年均增長(zhǎng)大于100%，已突破1000個(gè)反應(yīng)臺(tái)。截至2025年2月底，公司累計(jì)已有超過(guò)5400個(gè)反應(yīng)臺(tái)在國(guó)內(nèi)外130多條生產(chǎn)線，全面實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)和大規(guī)模重復(fù)性銷售。

據(jù)業(yè)績(jī)快報(bào)顯示，中微公司2024年?duì)I業(yè)收入約90.65億元，較2023年增加約28.02億元。該公司在過(guò)去13年保持營(yíng)業(yè)收入年均增長(zhǎng)大于35%，近四年?duì)I業(yè)收入年均增長(zhǎng)大于40%的基礎(chǔ)上，2024年?duì)I業(yè)收入又同比增長(zhǎng)約44.73%。其中，刻蝕設(shè)備收入約72.77億元，在最近四年收入年均增長(zhǎng)超過(guò)50%的基礎(chǔ)上，2024年又同比增長(zhǎng)約54.73%。

（來(lái)源：集微網(wǎng)）