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高功率寬禁帶半導(dǎo)體射頻器件研究進(jìn)展Research Progress of High Power Wide Band-gap Semiconductor RF Devices張進(jìn)成西安電子科技大學(xué)副校長(zhǎng)、教授ZHANG JinchengVice PresidentProfessor of Xidian University

AlN基高壓高頻功率器件研究進(jìn)展及挑戰(zhàn)Research Progress and Application Prospect ofAlNSingle Crystal Materials周弘西安電子科技大學(xué)教授ZHOUHongProfessor at Xidian University

雙閾值耦合AlGaN/GaN HEMT中用于優(yōu)化Ka波段高電場(chǎng)線(xiàn)性度的多指漏極板研究Investigation of multi-fingers drain field plate in dual-threshold coupling AlGaN/GaN HEMTs for optimizing linearity at high electrical field in Ka-bands王鵬飛西安電子科技大學(xué)Wang PengfeiXidian University

SiC等離子體波脈沖功率器件與應(yīng)用研究Research on 4H-SiC Plasma Wave Pulsed Power Devices and its Applications孫樂(lè)嘉西安電子科技大學(xué)副教授SUN LejiaAssociate Professor of Xidian University

MPCVD法金剛石同質(zhì)外延生長(zhǎng)及MOS器件技術(shù)Homogeneous epitaxial diamond growth by MPCVD and its MOS device technology張金風(fēng)西安電子科技大學(xué)教授ZHANG JinfengProfessor of Xidian University

氧化鎵異質(zhì)結(jié)功率晶體管Gallium Oxide Heterogeneous and Heterojunction Power Transistors韓根全西安電子科技大學(xué)教授HAN GenquanProfessor of Xidian University

氧化鎵功率器件耐壓和功率優(yōu)值的研究Research on Voltage Withstandand Power Optimum Value of Ga2O3 Power Devices張進(jìn)成西安電子科技大學(xué)副校長(zhǎng)、教授（團(tuán)隊(duì)代講）

SiC 功率MOSFET器件的可靠性研究Development trends and challenges of SiC Power MOSFET device 張藝蒙西安電子科技大學(xué)微電子學(xué)院教授Yimeng Zhang Professor of School of Microelectronics, Xidian University

極智報(bào)告|西安特銳德智能充電科技有限公司總工程師王利強(qiáng) ：電動(dòng)汽車(chē)充電技術(shù)發(fā)展及SiC應(yīng)用。更多專(zhuān)業(yè)學(xué)術(shù)報(bào)告，請(qǐng)點(diǎn)擊頁(yè)面頂端下載極智頭條APP，海量報(bào)告，免費(fèi)看！

西安電子科技大學(xué)趙子越博士分享了《基于氮化鈦源極擴(kuò)展技術(shù)的常關(guān)型氟離子處理的AlGaN/GaN高電子遷移率晶體管（fT/fmax=61GHz/130GHz）》主題報(bào)告。他介紹說(shuō)，在SiC襯底上實(shí)現(xiàn)了高性能的柵長(zhǎng)為0.1um的常關(guān)型薄勢(shì)壘AlGaN/GaN高電子遷移率晶體管器件，采用氟離子注入技術(shù)并結(jié)合氮化鈦源極擴(kuò)展技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高性能的常關(guān)型器件，其閾值電壓達(dá)到0.6V，飽和電流達(dá)到845mA/mm@Vgs=3V ，峰值跨導(dǎo)達(dá)到412mS/mm，電流截止頻率達(dá)到61GHz，最大

西安衛(wèi)光科技微晶微電子有限公司總工程師、博士馮 巍 《SiC功率MOSFET封裝工藝》

西安交通大學(xué)副教授李強(qiáng)做了題為射頻濺射技術(shù)制備h-BN薄膜的制作與應(yīng)用的主題報(bào)告，分享了濺射制備的hBN膜,包括工藝條件的選擇，hBN的性質(zhì)，以及hBN膜的應(yīng)用，包括電阻開(kāi)關(guān)行為等內(nèi)容。 報(bào)告指出，所制備的hBN膜可以在大面積上獲得良好的光滑度。由BN和BAlN薄膜組成的DBR可以在UVA波段實(shí)現(xiàn)高反射。首先在Ag / hBN / Al結(jié)構(gòu)中觀(guān)察到通過(guò)濺射制備的hBN膜的RS行為。摻鋁氮化硼薄膜的RS窗口明顯增加。

西安電子科技大學(xué)教授張金風(fēng)做了題為金剛石超寬禁帶半導(dǎo)體材料和器件新進(jìn)展的主題報(bào)告。她介紹說(shuō)，金剛石屬于新興的超寬禁帶半導(dǎo)體材料，具有禁帶寬度大，耐擊穿，載流子遷移率高，熱導(dǎo)率極高，抗輻照等優(yōu)點(diǎn)。在熱沉，大功率、高頻器件，光學(xué)窗口，量子信息等領(lǐng)域具有極大應(yīng)用潛力。報(bào)告中介紹了大尺寸金剛石單晶的制備方法最成功的是同質(zhì)外延的克隆拼接生長(zhǎng)方法和在Ir襯底上異質(zhì)外延的生長(zhǎng)方法。她表示，實(shí)現(xiàn)室溫下高電離率的體摻

西安電子科技大學(xué)微電子學(xué)院院長(zhǎng)張玉明：SiC MOSFET高閾值的實(shí)現(xiàn)及給應(yīng)用帶來(lái)的優(yōu)勢(shì)