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用于Micro LED芯片規(guī)模量產(chǎn)化的化學(xué)剝離生長(zhǎng)襯底技術(shù)Chemical Peel Growth Substrate Technology for Mass Production of Micro LED Chips郝茂盛上海芯元基半導(dǎo)體科技有限公司總經(jīng)理HAO MaoshengGeneral Manager of Shanghai Chipfoundation Semiconductor Technology Co., Ltd.

半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)高純電子化學(xué)品質(zhì)量管理的高要求High requirements for the quality management of high-purity electronic chemicals in Semiconductor俞冬雷安徽亞格盛電子新材料有限公司副總經(jīng)理YU DongleiVice General Manager of Anhui Argosun?New Electronic Materials Co., Ltd

基于金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積的-Ga2O3薄膜異質(zhì)外延及其在場(chǎng)效應(yīng)晶體管中的應(yīng)用王鋼*，陳偉驅(qū)，羅浩勛，陳梓敏，盧星，裴艷麗中山大學(xué)

《基于寬禁帶鋁鎵氮納米線的新型紫外光電化學(xué)光探測(cè)器研究進(jìn)展》作者：汪丹浩，孫海定，龍世兵單位：中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)微電子學(xué)院

《AlGaN基紫外發(fā)光和新型紫外光電化學(xué)光探測(cè)器研究進(jìn)展》作者：孫海定，龍世兵單位：中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)

　江蘇大學(xué)左然教授分享了《AlN MOCVD的氣相和表面反應(yīng)機(jī)理的量子化學(xué)計(jì)算》研究報(bào)告。他介紹到，課題組利用量子化學(xué)的密度泛函

亞洲輻射固化學(xué)會(huì)主席，北京化工大學(xué)教授聶俊分享《紫外LED在輻射固化領(lǐng)域的應(yīng)用與需求》

美國(guó)NAURA-Akrion, Inc.首席技術(shù)官Ismail I. KASHKOUSH分享了基于碳化硅器件制造的先進(jìn)化學(xué)濃度控制技術(shù)的研究成果。在傳統(tǒng)的MEMS制備中，相對(duì)惰性化合物（比如Si3N4）通常用于刻蝕停止或者制備襯底中的掩膜。然而這種材料需要了解刻蝕對(duì)于襯底的選擇性。對(duì)于過(guò)去的20年，研究發(fā)現(xiàn)碳化硅（SiC）因?yàn)槠浠瘜W(xué)性質(zhì)比較惰性已經(jīng)可以作為傳統(tǒng)批量微加工刻蝕停止的替代物。包括燃料霧化器，壓力傳感器和微型模具等MEMS應(yīng)用中可以使用典型

廣州慧谷化學(xué)有限公司LED部門總經(jīng)理鄭海庭博士在2018光亞展期間接受極智頭條專訪，一同帶您走進(jìn)慧谷化學(xué)LED封裝膠服務(wù)體驗(yàn)館！