日前,東南大學(xué)電子科學(xué)與工程學(xué)院孫偉鋒教授團(tuán)隊(duì)在氮化鎵(GaN)功率驅(qū)動(dòng)芯片技術(shù)上的最新研究成果成功發(fā)表在集成電路設(shè)計(jì)領(lǐng)域最高級(jí)別會(huì)議IEEE International Solid-State Circuits Conference (ISSCC)上。
該研究成果為:“A 600V GaN Active Gate Driver with Dynamic Feedback Delay Compensation Technique Achieving 22.5% Turn-on Energy Saving”,是一種針對(duì)第三代半導(dǎo)體GaN功率器件柵極控制的延時(shí)補(bǔ)償分段驅(qū)動(dòng)技術(shù),可有效緩解開關(guān)損耗和EMI的折衷關(guān)系。該論文是中國(guó)大陸在ISSCC會(huì)議上發(fā)表的第一篇關(guān)于高壓(600V等級(jí))GaN驅(qū)動(dòng)技術(shù)的論文。
GaN功率器件具有工作頻率高、導(dǎo)通電阻小、溫度特性好等優(yōu)點(diǎn),已成為未來(lái)高功率密度電源系統(tǒng)的首選器件。
在高功率密度電源系統(tǒng)應(yīng)用中,如何降低系統(tǒng)EMI噪聲和損耗是當(dāng)前GaN功率驅(qū)動(dòng)芯片面臨的一個(gè)重要挑戰(zhàn)。孫偉鋒教授團(tuán)隊(duì)通過采用延時(shí)補(bǔ)償技術(shù)與分段控制技術(shù)相結(jié)合的方式,依靠相位檢測(cè)和動(dòng)態(tài)補(bǔ)償,抵消檢測(cè)及控制延時(shí)的影響,有效降低dV/dt及開關(guān)損耗,并解決了柵極振蕩、誤導(dǎo)通、EMI噪聲等可靠性問題(圖1、圖2)。
與固定柵極電流驅(qū)動(dòng)技術(shù)相比,在100MHz頻率下,新技術(shù)的EMI噪聲在40V和400V工作電壓下分別降低6.3%與5.5%(圖3),同時(shí),在相同dV/dt應(yīng)力條件下,重載開關(guān)損耗在40V和400V工作電壓下分別降低20.9%與22.5%(圖4)。
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圖1 氮化鎵驅(qū)動(dòng)芯片延時(shí)補(bǔ)償分段驅(qū)動(dòng)技術(shù)結(jié)構(gòu)示意圖
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圖2 通過反饋延時(shí)補(bǔ)償優(yōu)化分段驅(qū)動(dòng)的控制效果示意圖
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圖3 分段驅(qū)動(dòng)技術(shù)與固定柵極電流驅(qū)動(dòng)技術(shù)EMI噪聲對(duì)比
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圖4 分段驅(qū)動(dòng)技術(shù)與固定柵極電流驅(qū)動(dòng)技術(shù)開啟功耗對(duì)比
據(jù)悉,國(guó)際固態(tài)電路年度會(huì)議(ISSCC)始于1953年,通常是各個(gè)時(shí)期國(guó)際上最尖端固態(tài)電路技術(shù)最先發(fā)表之地。由于ISSCC在國(guó)際學(xué)術(shù)、產(chǎn)業(yè)界受到極大關(guān)注,因此被稱為集成電路行業(yè)的“奧林匹克大會(huì)”。本次東南大學(xué)的研究成果也得到了華潤(rùn)上華科技有限公司在工藝制備上的支持。