日前，DRAM廠商南亞科宣布，將在中國臺灣新北市新建一座12英寸晶圓廠，新廠將采用雙層無塵室設(shè)計，使用南亞科自主研發(fā)的10納米制程，設(shè)計采用EUV極紫外光生產(chǎn)技術(shù)，規(guī)劃月產(chǎn)能約4.5萬片。今年底動工，2024年開始第一階段1.5萬片量產(chǎn)，總投資額達(dá)新臺幣3000億元（約合人民幣694億元）。

 

南亞科董事長吳嘉昭表示，該晶圓廠將以7年分三階段進(jìn)行投資，計劃2021年底動工，2023 年底完工開始試產(chǎn)，并于2024 年開始第一階段量產(chǎn)，產(chǎn)出顆粒數(shù)將較現(xiàn)有產(chǎn)能增加。

 

此外，吳嘉昭強(qiáng)調(diào)南亞科目前也在全力發(fā)展DDR5以及LPDDR5高容量高速度的產(chǎn)品，希望通過先進(jìn)制程上的研發(fā)能力，使臺灣地區(qū)DRAM產(chǎn)業(yè)更健康穩(wěn)固地發(fā)展。