當?shù)貢r間1月19日，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）官網(wǎng)顯示，英特爾訂購了一款最先進的芯片制造機（光刻機）。這款光刻機目前仍處于設(shè)計階段，預(yù)計數(shù)年后才會交付。
阿斯麥稱，現(xiàn)已收到5臺下一代光刻機的訂單，這5臺機器被稱為“High NA”EUV，將采用不同的鏡頭系統(tǒng)，數(shù)值孔徑（NA）更大，每臺成本約為3億美元。第一批原型將于2023年發(fā)貨，預(yù)計要到2025年才能用于批量生產(chǎn)。
此前，阿斯麥發(fā)言人曾透露，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進的工藝，將極度依賴高NA EUV光刻機。
阿斯麥最先進的商用機器被稱為“EUV光刻系統(tǒng)”，使用“極紫外光”（EUV）光波來繪制計算機芯片的電路的，其大小相當于一輛公交車，每臺成本約為1.5億美元。一家先進芯片工廠通常需要9~18臺這樣的設(shè)備。因此，光刻機是芯片制造商最大的資本開支之一。
當前，阿斯麥是此類機器的唯一制造商，其EUV客戶包括全球最大的芯片制造商，如臺積電、三星和英特爾等。
“英特爾的重點是保持在半導(dǎo)體光刻技術(shù)的前沿，在過去一年里，我們一直在建設(shè)我們的EUV專業(yè)知識和能力。”英特爾執(zhí)行副總裁和技術(shù)開發(fā)總經(jīng)理Ann Kelleher說。
