日前，至純科技在互動(dòng)平臺(tái)表示，公司三季度半導(dǎo)體設(shè)備的產(chǎn)能正在按今年的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃逐步提高中，預(yù)計(jì)年底產(chǎn)能可達(dá)150臺(tái)。晶圓再生業(yè)務(wù)今年度將產(chǎn)生部分收入。

 

至純科技為泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)客戶提供高純工藝系統(tǒng)和濕法工藝裝備，公司主要生產(chǎn)濕法清洗設(shè)備，提供槽式設(shè)備（槽數(shù)量按需配置）及單片機(jī)設(shè)備（8-12 反應(yīng)腔），均可以覆蓋 8-12寸晶圓制造的濕法工藝設(shè)備，其產(chǎn)品主要應(yīng)用于泛半導(dǎo)體、光纖、生物醫(yī)藥、液晶行業(yè)和汽車(chē)行業(yè)。此前，至純科技表示，公司在12寸28納米節(jié)點(diǎn)可提供全部工藝的設(shè)備。

 

在半導(dǎo)體制造設(shè)備中，一般包含光刻、刻蝕、薄膜沉積、兩側(cè)、清洗、CMP 等設(shè)備。全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)的龍頭企業(yè)包括迪恩士(Dainippon Screen)、東京電子(TEL)、韓國(guó) SEMES、拉姆研究 （Lam Research）等，目前國(guó)內(nèi)清洗機(jī)設(shè)備領(lǐng)域的廠商有北方華創(chuàng)、至純科技、盛美半導(dǎo)體、芯源微等。