盛美上海通過(guò)線上會(huì)議舉行了科創(chuàng)板上市周年慶暨新品發(fā)布會(huì)。此次發(fā)布的新產(chǎn)品是前道涂膠顯影設(shè)備Ultra LITH，這標(biāo)志著盛美上海正式進(jìn)入半導(dǎo)體前道光刻領(lǐng)域。據(jù)介紹，該新品用于前道300mm晶圓的涂膠顯影，具有4個(gè)12英寸裝載端口，8個(gè)涂膠腔和8個(gè)顯影腔，可進(jìn)一步擴(kuò)展到12個(gè)涂膠腔和12個(gè)顯影腔，適用于i-line、KrF和ArF等多種材料的涂膠顯影工藝。

據(jù)悉，Ultra LITH設(shè)備采用自主全球?qū)＠Ｗo(hù)的全新系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，擁有穩(wěn)定的電控架構(gòu)及強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，且具可擴(kuò)張性，可以支持300 WPH及未來(lái)下一代高產(chǎn)出光刻機(jī)400 WPH的更高產(chǎn)出需求；搭載高速穩(wěn)定的機(jī)械手系統(tǒng)，多機(jī)械手協(xié)同配合，可實(shí)現(xiàn)晶圓傳輸路徑的優(yōu)化，提高傳輸效率。

同時(shí)，該設(shè)備的內(nèi)部氣流分布進(jìn)行了優(yōu)化處理，可減少顆粒污染，強(qiáng)大的清洗技術(shù)亦可支持未來(lái)浸沒(méi)式光刻機(jī)對(duì)硅片背面的顆粒清洗需求；此外，分區(qū)控制的高精度熱板由公司自主研發(fā)，已達(dá)到業(yè)界先進(jìn)水平。且該設(shè)備適配性強(qiáng)，支持主流的光刻機(jī)接口。

自2021年11月18日在科創(chuàng)板上市至今，盛美上海持續(xù)推進(jìn)產(chǎn)品多元化戰(zhàn)略，共計(jì)發(fā)布8款產(chǎn)品，涉及半導(dǎo)體及新型化合物半導(dǎo)體制造工藝的電鍍、清洗、薄膜沉積、涂膠顯影等多個(gè)環(huán)節(jié)。

（來(lái)源：上海證券報(bào)）