清溢光電近日披露投資者關(guān)系活動(dòng)記錄表顯示，半導(dǎo)體芯片用掩膜版技術(shù)方面，公司已實(shí)現(xiàn)250nm半導(dǎo)體芯片用掩膜版的量產(chǎn)，正在推進(jìn)180nm半導(dǎo)體芯片用掩膜版的客戶測(cè)試認(rèn)證，同步開展130nm-65nm半導(dǎo)體芯片用掩膜版的工藝研發(fā)和28nm半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。

深圳工廠新引進(jìn)的半導(dǎo)體芯片用掩膜版光刻機(jī)已經(jīng)到位，但因疫情等因素影響，配套的清洗和檢測(cè)設(shè)備交期較長(zhǎng)，預(yù)計(jì)相關(guān)設(shè)備到位后將提升IC Bumping和Mini LED芯片用掩膜版等產(chǎn)品的產(chǎn)能，以更好地滿足集成電路凸塊（IC Bumping）、集成電路代工（IC Foundry）、集成電路載板（IC Substrate）、Mini LED芯片、MicroLED芯片、微機(jī)電（MEMS）等市場(chǎng)的需求。

在平板顯示用掩膜版技術(shù)方面，公司已實(shí)現(xiàn)8.5代高精度TFT用掩膜版及6代中精度AMOLED/LTPS用掩膜版的量產(chǎn)，初步實(shí)現(xiàn)了掩膜基板涂膠工藝的量產(chǎn)及半透膜掩膜版(HTM)產(chǎn)品的多家客戶供貨，正在逐步推進(jìn)8.6代高精度TFT用掩膜版和6代高精度AMOLED/LTPS用掩膜版的客戶導(dǎo)入及后續(xù)逐步量產(chǎn)計(jì)劃，同步進(jìn)行6代超高精度AMOLED/LTPS用掩膜版的研發(fā)和高規(guī)格半透膜掩膜版(HTM)規(guī)劃開發(fā)。因顯示逐步大尺寸、多樣化，且精度要求越來(lái)越高，并呈現(xiàn)柔性化顯示等趨勢(shì)，公司未來(lái)平板顯示用掩膜版的發(fā)展方向主要是大尺寸高精度顯示、AMOLED/LTPS 高清晰度及柔性顯示掩膜版產(chǎn)品。