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天岳先進(jìn):持續(xù)進(jìn)行碳化硅單晶基礎(chǔ)研究以提高晶體生長(zhǎng)效率和質(zhì)量

日期:2024-01-30 閱讀:227
核心提示:天岳先進(jìn)在回答投資者提問(wèn)時(shí)表示,碳化硅單晶作為新興半導(dǎo)體材料,面臨碳化硅襯底制備難度大,技術(shù)門檻高等問(wèn)題,截至目前國(guó)際上

 天岳先進(jìn)在回答投資者提問(wèn)時(shí)表示,碳化硅單晶作為新興半導(dǎo)體材料,面臨碳化硅襯底制備難度大,技術(shù)門檻高等問(wèn)題,截至目前國(guó)際上仍只有少數(shù)企業(yè)掌握襯底規(guī)?;a(chǎn)能力,是產(chǎn)業(yè)鏈的核心關(guān)鍵環(huán)節(jié)。由于目前產(chǎn)業(yè)化制備方法,碳化硅大規(guī)模生產(chǎn)存在晶體缺陷控制難度大的問(wèn)題,目前公司對(duì)缺陷的表征方法和控制手段進(jìn)行基礎(chǔ)研究,以持續(xù)提高晶體生長(zhǎng)效率和質(zhì)量。同時(shí)為繼續(xù)保持在全球技術(shù)和產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)中的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),公司在前瞻技術(shù)研發(fā)布局上持續(xù)加大投入,未來(lái),公司將不斷緊跟產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)和技術(shù)前沿,持續(xù)夯實(shí)技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),聚焦碳化硅襯底精耕細(xì)作,努力爭(zhēng)取在技術(shù)層面實(shí)現(xiàn)持續(xù)突破和進(jìn)步。

 

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