據(jù)外媒，4月18日消息，荷蘭阿斯麥 (ASML) 公司宣布，其首臺采用0.55數(shù)值孔徑 (NA) 投影光學(xué)系統(tǒng)的高數(shù)值孔徑 (High-NA) 極紫外 (EUV) 光刻機(jī)已經(jīng)成功印刷出首批圖案。這一突破是ASML公司以及整個高數(shù)值孔徑EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域的一項重大里程碑。

ASML在聲明中表示，其位于埃因霍芬的高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)首次印刷出 10 納米線寬（dense line）圖案。此次成像是在光學(xué)系統(tǒng)、傳感器和移動平臺完成粗調(diào)校準(zhǔn)后實(shí)現(xiàn)的。接下來將致力于讓系統(tǒng)達(dá)到最佳性能表現(xiàn)，并最終在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)環(huán)境中復(fù)制這一成果。

據(jù)悉，ASML 配備 0.55 NA 鏡頭的新型 Twinscan EXE:5200 型光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn) 8nm 的超高分辨率，可在2nm及以下節(jié)點(diǎn)芯片的制造領(lǐng)域占據(jù)明顯優(yōu)勢。