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河北同光半導(dǎo)體取得SiC專利,實(shí)現(xiàn)將源于生長區(qū)石墨件腐蝕引起的包裹物分布控制在晶體邊緣

日期:2024-09-09 閱讀:262
核心提示:河北同光半導(dǎo)體股份有限公司取得一項(xiàng)名為“一種低包裹物密度SiC晶體的生長裝置及生長方法“,

 9月8日消息,天眼查知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息顯示,河北同光半導(dǎo)體股份有限公司取得一項(xiàng)名為“一種低包裹物密度SiC晶體的生長裝置及生長方法“,授權(quán)公告號(hào)CN117737858B,申請日期為2024年2月。

專利摘要顯示,本申請?zhí)峁┮环N低包裹物密度SiC晶體的生長裝置及生長方法,屬于晶體生長技術(shù)領(lǐng)域。該生長裝置,包括:籽晶固定件、籽晶、石墨坩堝、感應(yīng)線圈、保溫組件和耐腐蝕過濾組件;SiC粉料置于石墨坩堝底部;耐腐蝕過濾組件置于石墨坩堝內(nèi),并置于SiC粉料上方;耐腐蝕過濾組件為平頂金字塔結(jié)構(gòu),包括多層微孔TiC環(huán)和設(shè)置于頂層的微孔TiC板;其中,下層微孔TiC環(huán)內(nèi)徑和外徑大于上層,且下層微孔TiC環(huán)內(nèi)徑小于或等于上層外徑;微孔TiC環(huán)和微孔TiC板經(jīng)碳化工藝碳化處理獲得。本申請平頂金字塔狀的耐腐蝕過濾組件能夠?qū)崿F(xiàn)料區(qū)向上輸運(yùn)氣態(tài)組分中C顆粒的完全過濾,同時(shí),實(shí)現(xiàn)調(diào)控氣態(tài)SiC組分的輸運(yùn)方向,實(shí)現(xiàn)將源于生長區(qū)石墨件腐蝕引起的包裹物分布控制在晶體邊緣。

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