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江蘇集芯申請(qǐng)大尺寸碳化硅晶體生長(zhǎng)坩堝及生長(zhǎng)裝置專利,保證晶體中心位置和外側(cè)邊緣的生長(zhǎng)速率相一致

日期:2024-10-21 閱讀:256
核心提示:國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,江蘇集芯先進(jìn)材料有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為大尺寸碳化硅晶體生長(zhǎng)坩堝及生長(zhǎng)裝置的專利,公開號(hào)CN 118756340

國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,江蘇集芯先進(jìn)材料有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“大尺寸碳化硅晶體生長(zhǎng)坩堝及生長(zhǎng)裝置”的專利,公開號(hào)CN 118756340 A,申請(qǐng)日期為2024年5月。

專利摘要顯示,本發(fā)明公開了一種大尺寸碳化硅晶體生長(zhǎng)坩堝及生長(zhǎng)裝置,生長(zhǎng)坩堝包括外坩堝組件和內(nèi)坩堝組件,所述外坩堝組件形成有密封的第一容納腔;所述內(nèi)坩堝組件形成有第二容納腔,所述內(nèi)坩堝組件設(shè)于所述第一容納腔內(nèi),所述內(nèi)坩堝組件的頂部設(shè)有連通所述第二容納腔和所述第一容納腔的貫穿孔;所述內(nèi)坩堝組件能夠根據(jù)生長(zhǎng)階段調(diào)節(jié)其內(nèi)部氣相組分的流動(dòng)方向,以使氣相組分持續(xù)穩(wěn)定的均勻分布所述外坩堝組件內(nèi)側(cè)壁正對(duì)所述貫穿孔的側(cè)設(shè)有第一石墨紙。根據(jù)本發(fā)明的大尺寸碳化硅晶體生長(zhǎng)坩堝,能夠自動(dòng)調(diào)節(jié)其內(nèi)部氣相組分的流動(dòng)方向,以使氣相組分持續(xù)穩(wěn)定的均勻分布,保證晶體中心位置和外側(cè)邊緣的生長(zhǎng)速率相一致,有效避免大尺寸晶體的凸度問(wèn)題。

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