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長鑫存儲(chǔ)申請(qǐng)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及制備方法專利,提高集成電路的存儲(chǔ)密度

日期:2024-10-31 閱讀:256
核心提示:國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,長鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及制備方法的專利,公開號(hào)CN 118829192 A,申請(qǐng)日期為2023

國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,長鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及制備方法”的專利,公開號(hào)CN 118829192 A,申請(qǐng)日期為2023年4月。

專利摘要顯示,本公開實(shí)施例涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,提供一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及制備方法,半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括:基底,基底內(nèi)具有沿第一方向延伸的位線;半導(dǎo)體柱,半導(dǎo)體柱位于基底內(nèi),半導(dǎo)體柱與位線電連接;半導(dǎo)體柱包括溝道區(qū)以及位于溝道區(qū)兩側(cè)的兩個(gè)摻雜區(qū),兩個(gè)摻雜區(qū)的其中一摻雜區(qū)與位線電連接;溝道區(qū)在兩個(gè)摻雜區(qū)的每一摻雜區(qū)的正投影均位于每一摻雜區(qū)內(nèi)字線字線沿第二方向延伸,字線位于基底內(nèi),字線環(huán)繞溝道區(qū);存儲(chǔ)結(jié)構(gòu),存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)位于基底上,存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)與兩個(gè)摻雜區(qū)的另一摻雜區(qū)電連接;其中,第一方向與第二方向相交。公開的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)至制備方法至少可以提高集成電路的存儲(chǔ)密度。

 

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