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Nature Photonics | 基于深紫外microLED顯示的無掩膜光刻技術(shù)與應(yīng)用示范

中科大孫海定iGaN實驗室研究三維垂直集成microLED陣列實現(xiàn)無掩膜深紫外光刻新技術(shù)

極紫外光刻新技術(shù)問世能大幅提高能源效率并降低半導(dǎo)體制造成本

復(fù)旦大學(xué)研發(fā)半導(dǎo)體性光刻膠，實現(xiàn)特大規(guī)模集成度有機芯片制造

九峰山實驗室+華中科大聯(lián)合攻關(guān)，一種新型光刻膠技術(shù)完成初步工藝驗證

全球首顆！我國芯片領(lǐng)域取得重大突破！

簡述光刻機制造設(shè)備

華中大團(tuán)隊成功研發(fā)國內(nèi)首款全自主計算光刻EDA軟件

EUV光刻機在3nm的新挑戰(zhàn)

王陽元院士：關(guān)鍵的、核心的集成電路可以成就一個新興企業(yè)乃至一個產(chǎn)業(yè)

ASML第2代EUV光刻機開發(fā)傳瓶頸，神隊友救援力拼原時程問世

中科院：上海光機所計算光刻技術(shù)研究取得進(jìn)展

國內(nèi)多家晶圓廠KrF光刻膠供應(yīng)緊張，部分產(chǎn)線面臨斷供危機

清華大學(xué)科研團(tuán)隊新成果：有望為EUV光刻光源提供新技術(shù)路線

繞開光刻機，華為破冰，美媒感嘆：太快了

時隔7年，昔日光刻機巨頭卷土重來，挑戰(zhàn)荷蘭ASML霸主地位

中科院院長白春禮：在光刻機、高端芯片等方面，集結(jié)精銳力量組織系統(tǒng)攻關(guān)

佳能發(fā)售半導(dǎo)體光刻機“FPA-8000iW”：可應(yīng)對大型方形基板且解像力達(dá)1.0微米

投資者提問：最近福建安芯半導(dǎo)體一臺值近千萬元的光刻機出貨，實現(xiàn)了60%至7...

弘芯半導(dǎo)體ASML高端光刻機進(jìn)場第三家國產(chǎn)14nm工藝來了

芯源微成功上市，成為中國半導(dǎo)體光刻設(shè)備上市“第一股”

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