亚洲日韩久久|国偷自产一区二区三区蜜臀国|国产一区二区日韩|99热这里只亚洲无码,无码

首頁 > 新聞資訊 > 搜索

九奕半導(dǎo)體設(shè)備取得光刻機(jī)送料機(jī)構(gòu)專利，使硅片涂布更均勻

中芯微取得半導(dǎo)體生產(chǎn)制造用光刻機(jī)專利，可實(shí)現(xiàn)移動(dòng)目的

大族安萊微米級(jí)光刻機(jī)項(xiàng)目開工

粵芯半導(dǎo)體申請(qǐng)光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)方法專利，平衡晶圓中切割道與芯片的研磨速率

中芯國(guó)際申請(qǐng)光刻機(jī)焦距監(jiān)控相關(guān)專利，實(shí)現(xiàn)在線焦距監(jiān)控且對(duì)產(chǎn)品晶圓圖形影響小

尼康官宣旗下首款半導(dǎo)體后端工藝用光刻機(jī)

工信部推廣國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)，最小套刻精度≤8nm

冠石半導(dǎo)體入場(chǎng)首臺(tái)先進(jìn)電子束掩模版光刻機(jī)

三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機(jī)

光刻機(jī)制造商ASML擴(kuò)建計(jì)劃獲表決通過

俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)制造完成：可生產(chǎn)350納米工藝芯片

宜興中車時(shí)代中低壓功率器件項(xiàng)目首臺(tái)光刻機(jī)搬入

ASML High-NA EUV光刻機(jī)取得突破，成功印刷10nm線寬圖案

國(guó)內(nèi)首臺(tái)大芯片先進(jìn)封裝專用光刻機(jī)交付入廠

中荷雙方重點(diǎn)就光刻機(jī)輸華和加強(qiáng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)合作等議題深入交換意見

ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

盛美上海：光刻機(jī)的購(gòu)入選擇,KrF-line是首要目標(biāo)

ASML：多款光刻機(jī)2024年將不會(huì)獲得對(duì)華出口許可

美國(guó)施壓要求荷蘭停止向中國(guó)出口某型號(hào)光刻機(jī) 外交部回應(yīng)

全球半導(dǎo)體設(shè)備五強(qiáng)醞釀大變局

盛美上海：Track設(shè)備預(yù)計(jì)在明年年中有望完成與光刻機(jī)的對(duì)接工藝測(cè)試

俄羅斯明年開始生產(chǎn)光刻機(jī)！

ASML在中國(guó)的光刻機(jī)加上量測(cè)的機(jī)臺(tái)近1400臺(tái)！

中信證券：國(guó)產(chǎn)高端光刻機(jī)的發(fā)展有望獲得推動(dòng)，光刻機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈將有望同步受益

清溢光電；佛山生產(chǎn)基地項(xiàng)目將適時(shí)考慮引入電子束光刻機(jī)

俄羅斯開發(fā)出可替代光刻機(jī)的芯片制造設(shè)備

中國(guó)半導(dǎo)體進(jìn)口創(chuàng)新高！狂買荷蘭光刻機(jī)

清溢光電上半年光刻機(jī)入場(chǎng) 擬15億擴(kuò)產(chǎn)半導(dǎo)體掩模版

日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄，采購(gòu)ASML光刻機(jī)推進(jìn)2nm工藝

東南大學(xué)微納系統(tǒng)國(guó)際創(chuàng)新中心電子束光刻機(jī)采購(gòu)招標(biāo)公告（第三次）

第1頁/共5頁首頁下一頁上一頁尾頁

聯(lián)系客服投訴反饋頂部