經(jīng)歷風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)之后,芯片代工廠商通常會(huì)迅速提升基于新一代制程的晶圓產(chǎn)能。而通過當(dāng)前公布和預(yù)期生產(chǎn)的產(chǎn)品范圍,我們還可以知曉廠商對(duì)新工藝的信心有多高。作為 2020 年度技術(shù)研討會(huì)的一部分,臺(tái)積電就發(fā)表了其對(duì)于 5nm 先進(jìn)制程(簡稱 N5)的一點(diǎn)展望。預(yù)計(jì) 2020 年底的時(shí)候,我們可見到首批基于 N5 工藝的消費(fèi)級(jí)產(chǎn)品,尤其是智能手機(jī)。
資料圖(來自:TSMC)
通常情況下,初始生產(chǎn)的轉(zhuǎn)進(jìn)會(huì)相對(duì)較慢。因?yàn)楫a(chǎn)品研發(fā)和驗(yàn)證將耗費(fèi)大量的時(shí)間,一不小心就會(huì)落后于市場上的其它競爭對(duì)手(比如 TSMC 運(yùn)氣不佳的 20nm 工藝)。
不過目前,臺(tái)積電已經(jīng)開始了 N5 的大規(guī)模生產(chǎn)。這意味著相關(guān)客戶已經(jīng)拿到了用于驗(yàn)證的預(yù)生產(chǎn)芯片,甚至已經(jīng)在交付第一批新硬件。
圖表 Y 軸標(biāo)明為“12 英寸晶圓占比”
從臺(tái)積電在技術(shù)研討會(huì)上分享的 PPT 來看,該公司 2020 年度生產(chǎn)的 16nm 以下晶圓中,將有 11% 基于 5nm 工藝。遺憾的是,臺(tái)積電并未公布確切的數(shù)據(jù)。
但在另一張 PPT 中,該公司還是披露在 2019 年生產(chǎn)了超過 1200 萬片 12 英寸晶圓(涵蓋了所有工藝與設(shè)施)。財(cái)務(wù)方面,TSMC 僅對(duì)每個(gè)節(jié)點(diǎn)進(jìn)行了細(xì)分(僅按收入分類)。
若將 5nm 與 7nm 產(chǎn)能進(jìn)行比較,可知后者在過去一年時(shí)間里迎來了 22.7% 的增長,而 2020 年度的 5nm 產(chǎn)能將相當(dāng)于 7nm 的 24% 左右?;诖耍_(tái)積電預(yù)計(jì) 2021 和 2022 年的 5nm 產(chǎn)能將為 2020 年的 2~3 倍。
據(jù)悉,目前該公司的所有 5nm 芯片都在最新建造的 Fab 18 晶圓廠制造,這里的六幢建筑被 TSMC 詡為“第四代超級(jí)工廠”(4th GigaFab)。
自 2018 年 1 月 26 日破土動(dòng)工以來,F(xiàn)ab 18 在一年后便開始安裝 1300 多種制造工具,包括 EUV 光刻機(jī),且整個(gè)過程僅耗費(fèi)了 8 個(gè)月的時(shí)間。
之后臺(tái)積電開始了 5nm 的風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),并于 2 季度開啟了大批量生產(chǎn),預(yù)計(jì)年產(chǎn)能可超過 100 萬片 12 英寸晶圓(全部為 5nm 工藝)。與同等規(guī)模的競爭對(duì)手相比,其在能效等方面均處于業(yè)內(nèi)領(lǐng)先地位。
來源:cnBeta.COM