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日本加強(qiáng)出口管制！42家中國(guó)實(shí)體列入“黑名單”，涉及處理器、光刻機(jī)等領(lǐng)域

九奕半導(dǎo)體設(shè)備取得光刻機(jī)送料機(jī)構(gòu)專利，使硅片涂布更均勻

山東發(fā)布新材料產(chǎn)業(yè)科技創(chuàng)新行動(dòng)計(jì)劃，第三代半導(dǎo)體材料、光刻膠等被劃重點(diǎn)

中芯微取得半導(dǎo)體生產(chǎn)制造用光刻機(jī)專利，可實(shí)現(xiàn)移動(dòng)目的

大族安萊微米級(jí)光刻機(jī)項(xiàng)目開(kāi)工

深圳晶源申請(qǐng)光刻膠模型優(yōu)化方法專利，能夠解決模型中存在的過(guò)擬合現(xiàn)象和一致性不佳的技術(shù)問(wèn)題

粵芯半導(dǎo)體申請(qǐng)光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)方法專利，平衡晶圓中切割道與芯片的研磨速率

中芯國(guó)際申請(qǐng)光刻機(jī)焦距監(jiān)控相關(guān)專利，實(shí)現(xiàn)在線焦距監(jiān)控且對(duì)產(chǎn)品晶圓圖形影響小

尼康官宣旗下首款半導(dǎo)體后端工藝用光刻機(jī)

國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破，已通過(guò)量產(chǎn)驗(yàn)證！

浙江奧首材料科技申請(qǐng)一種用于半導(dǎo)體化合物光刻膠的剝離液專利，減少剝離液中的腐蝕

威邁芯材年產(chǎn)100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項(xiàng)目封頂總投資3億元

工信部推廣國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)，最小套刻精度≤8nm

威邁芯材年產(chǎn)100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項(xiàng)目主體結(jié)構(gòu)全面封頂

智芯微“光刻膠均勻覆蓋晶圓表面的仿真方法”專利公布

福建泓光半導(dǎo)體材料取得一種光刻膠自動(dòng)過(guò)濾裝置專利，提高工作效率

國(guó)內(nèi)首臺(tái)超大尺寸鈣鈦礦高速激光刻蝕成套設(shè)備發(fā)布

光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)出高性能量子點(diǎn)光刻膠

湃邦半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目在海寧投產(chǎn)！

安徽首片！晶合集成光刻掩模版成功亮相

冠石半導(dǎo)體入場(chǎng)首臺(tái)先進(jìn)電子束掩模版光刻機(jī)

三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機(jī)

光刻機(jī)制造商ASML擴(kuò)建計(jì)劃獲表決通過(guò)

容大感光擬募資2.45億元建設(shè)高端感光線路干膜光刻膠項(xiàng)目

微芯新材料年產(chǎn)千噸電子級(jí)光刻膠原材料項(xiàng)目動(dòng)工

俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)制造完成：可生產(chǎn)350納米工藝芯片

宜興中車時(shí)代中低壓功率器件項(xiàng)目首臺(tái)光刻機(jī)搬入

芯源微廣州子公司光刻膠泵及高純供液系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目開(kāi)工

ASML High-NA EUV光刻機(jī)取得突破，成功印刷10nm線寬圖案

國(guó)內(nèi)首臺(tái)大芯片先進(jìn)封裝專用光刻機(jī)交付入廠

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