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東南大學(xué)微納系統(tǒng)國(guó)際創(chuàng)新中心電子束光刻機(jī)采購(gòu)招標(biāo)公告（第三次）

英偉達(dá)等四巨頭“密謀”，研發(fā)出突破性計(jì)算光刻技術(shù)

卓芯杰國(guó)產(chǎn)光刻膠項(xiàng)目落戶太倉(cāng)

南大光電：已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線

南京航空航天大學(xué)無(wú)掩模版直寫(xiě)光刻機(jī)采購(gòu)公開(kāi)招標(biāo)公告

半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)徐州博康獲清楓資本數(shù)千萬(wàn)元投資

容大感光：將建設(shè)年產(chǎn)1.20億平方米感光干膜光刻膠項(xiàng)目

荷蘭擬對(duì)華限制出口DUV光刻等半導(dǎo)體技術(shù)

光刻膠、電子特氣…關(guān)于半導(dǎo)體材料領(lǐng)域，兩會(huì)代表關(guān)注這些問(wèn)題

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)再突破后，能實(shí)現(xiàn)7nm芯片量產(chǎn)？

東材科技：擬增資入股韓國(guó)Chemax 布局先進(jìn)光刻膠材料領(lǐng)域

容大感光募資6.7億定增加碼光刻膠

外交部回應(yīng)荷蘭對(duì)華停止出售光刻機(jī) 希望各方獨(dú)立自主地作出決定

天津大學(xué)精儀學(xué)院無(wú)掩膜光刻機(jī)更正公告

銳石創(chuàng)芯濾波器生產(chǎn)基地項(xiàng)目一期首臺(tái)光刻機(jī)入廠

4.3億！久日新材追加9850噸光刻膠原料建設(shè)項(xiàng)目投資

鼎泰匠芯12英寸車規(guī)級(jí)功率半導(dǎo)體晶圓制造中心首臺(tái)ASML光刻機(jī)搬入

東南大學(xué)微納系統(tǒng)國(guó)際創(chuàng)新中心8寸光刻機(jī)采購(gòu)（二次）公開(kāi)招標(biāo)公告

北理重慶微電子研究院步進(jìn)投影光刻機(jī)采購(gòu)公開(kāi)招標(biāo)公告

盛美上海發(fā)布新品設(shè)備進(jìn)入半導(dǎo)體前道光刻領(lǐng)域

大連理工大學(xué)激光直寫(xiě)光刻機(jī)系統(tǒng)采購(gòu)項(xiàng)目公開(kāi)招標(biāo)公告

芯碁微裝：8.25億元定增申請(qǐng)獲上交所受理將加大直寫(xiě)光刻設(shè)備產(chǎn)業(yè)布局

東南大學(xué)微納系統(tǒng)國(guó)際創(chuàng)新中心8寸光刻機(jī)采購(gòu)公開(kāi)招標(biāo)公告

擺脫EUV光刻機(jī)限制！國(guó)內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線即將建成

突發(fā)！美國(guó)要求荷蘭、日本對(duì)華禁售DUV光刻機(jī)！

長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)公開(kāi)多項(xiàng)專利，半導(dǎo)體光刻補(bǔ)償方法專利為其中之一

外媒：臺(tái)積電或?qū)⒃?024年引入阿斯麥最新一代極紫外光刻機(jī)

ASML有意大舉向中國(guó)出售光刻機(jī)，意在何為？

久日新材年產(chǎn)600噸微電子光刻膠專用光敏劑項(xiàng)目投產(chǎn)

芯片供給過(guò)剩正式得到確認(rèn)，ASML的光刻機(jī)生意可能大受影響

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